EDI設(shè)備的化學(xué)清洗及再生

雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會，但是隨著設(shè)備運行時間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過0.8ppm）、CO2 和較高的 pH 值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI膜塊進(jìn)行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

 

通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進(jìn)行評估判定：

1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高 45%。

2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。

 

膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式：顆粒/膠體污堵；無機(jī)物污堵；有機(jī)物污堵；微生物污堵。（EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程，切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。）詳細(xì)如下：

1、顆粒/膠體污堵

進(jìn)水顆粒度≥5μm 時會造成進(jìn)水流道堵塞，引起膜塊內(nèi)部水流分布不均勻，從而導(dǎo)致 膜塊整體性能降低。如果EDI膜塊的進(jìn)水不是直接由 RO 產(chǎn)水端進(jìn)入 EDI 膜塊，而是通過RO產(chǎn)水箱經(jīng)過增壓泵供水，建議在進(jìn)入EDI膜塊前端增設(shè)保安過濾器（≤0.2μm）。 在組裝EDI設(shè)備時，所有的連接管道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進(jìn)入膜塊。

2、無機(jī)物污堵

如果 EDI 進(jìn)水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計值或者回收率超過設(shè)計值時,將導(dǎo)致濃水室和陰極室的結(jié)垢，生成鹽類物質(zhì)析出沉淀，通常結(jié)垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質(zhì)的濃度很小，接觸時間也很短，但隨著運行時間的累加，仍有發(fā)生結(jié)垢的可能，這種硬度結(jié)垢很容易通過酸洗去除。按照方案1中的方法，使用低PH溶液在系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)清洗，可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。

當(dāng)進(jìn)水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進(jìn)入到EDI膜塊時，也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無幾物污堵?？梢圆捎梅桨?/span>2進(jìn)行清洗。

3、有機(jī)物污堵

當(dāng)進(jìn)水有機(jī)污染物TOC或TEA含量超過設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)時，淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生有機(jī)污堵?？梢圆捎梅桨?/span>3的方法，用高PH值的藥水對淡水室及濃水室循環(huán)清洗可以將有機(jī)分子清除出離子交換樹脂對這種污堵進(jìn)行清洗。

4、微生物污堵

當(dāng)設(shè)備運行環(huán)境適于微生物生長，或者進(jìn)水中存在較多的細(xì)菌和藻類的時候，EDI膜塊和系統(tǒng)也會發(fā)生微生物污堵?？梢圆捎梅桨?/span>3、4中的方法用高PH鹽水進(jìn)行清洗。如果微生物污堵情形比較嚴(yán)重時，可以采用方案5進(jìn)行清洗。如果同時伴有無機(jī)物污堵， 可以按照方案6加入酸洗步驟。

對于極嚴(yán)重的微生物污堵，可以采用方案7或8以高PH 藥劑清洗。

 

 

 

 

 

清洗方法時間：

清洗方法	時間（分鐘）	備注
酸洗	30-50
堿洗	30-50
鹽水清洗	35-60
消毒	25-40
沖洗	≥50
再生	≥120

單個膜塊清洗藥液配用量：

膜塊產(chǎn)水量	藥液配用量(L)	備注
0.5T/H	50	1、酸洗溫度 15-25℃ 2、堿洗溫度 25-30℃ 3、配藥液用水必須是RO產(chǎn)水或高于RO產(chǎn)水的去離子水
1T/H	80
2T/H	110
3T/H	150
5T/H	200

清洗用化學(xué)藥品規(guī)格：

藥品名稱	推薦等級	備注
鹽酸HCL	化學(xué)純或試劑級
氫氧化鈉NaOH	化學(xué)純或試劑級	液態(tài)：50%w/w
氯化鈉NaCL	食品級、化學(xué)純或試劑級	食品級≥99.8%
過氧化氫H2O2	化學(xué)純	30%
過氧乙酸CH3COOOH	化學(xué)純

 

安全注意事項：

1、在配置清洗藥液時，必須穿戴好防護(hù)服、防護(hù)眼鏡和防護(hù)手套。

2、需要清洗的設(shè)備管路必須是與其他連接設(shè)備的連接管路完全隔離的。

3、需要清洗的設(shè)備其電源必須是完全切斷并有“正在操作，不得送電”的安全警示。

4、整個清洗過程中清洗的工作壓力不能超過 0.15MPa。

 

清洗設(shè)備組件

1、清洗循環(huán)泵（耐腐蝕泵）

2、清洗水箱（PP）

3、耐腐蝕清洗軟管（與清洗泵適配）

4、耐腐蝕閥門（UPVC）

5、耐腐蝕壓力表

6、過濾器（≤1μm）

工具：pH 試紙（廣泛）；溫度計；計時表

 

一、濃水室結(jié)垢清洗

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過濃水管路進(jìn)入EDI膜塊再回到清洗水箱，濃水進(jìn)、出水閥開啟，關(guān)閉EDI淡水進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（酸洗步驟）。（參見附表）

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、打開EDI進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥，同時對兩個水室進(jìn)行沖洗。

9、檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

10、各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

11、恢復(fù) EDI 各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

12、開啟 PLC 控制柜電源，向 EDI 膜塊送電，轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

二、淡水室結(jié)垢清洗

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（酸洗步驟）。（參見附表）

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

10、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

11、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

12、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

三、有機(jī)物污堵清洗

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 2%鹽（NaCl）的清洗液。

5、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（堿洗步驟）。（參見附表）

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

10、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

11、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

12、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

四、有機(jī)物污堵和結(jié)垢

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（酸洗步驟）。參見附表）

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 2%鹽（NaCl）的清洗液。

10、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（堿洗步驟）。（參見附表）

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

15、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

16、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

17、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

微生物污堵可采用方案 3 進(jìn)行；微生物污堵和結(jié)垢可采用方案 4 進(jìn)行。

 

五、嚴(yán)重的微生物污堵

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、 濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

5、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。（參見附表）

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、在清洗水箱配置 0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH) 0.2%的過氧化氫（H2O2）清洗液。

10、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（消毒步驟）。（參見附表）

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、在清洗水箱配置 2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

15、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。（參見附表）

16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

17、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

18、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

19、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

20、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

21、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

22、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

六、嚴(yán)重的微生物污堵和結(jié)垢

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（酸洗步驟）。（參見附表）

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

10、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。（參見附表）

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH) 0.2%的過氧化氫（H2O2）清洗液。

15、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（消毒步驟）。

16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

17、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

18、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

19、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

20、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。

21、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

22、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

23、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

24、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

25、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

26、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

27、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

七、極嚴(yán)重的微生物污堵

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

5、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH) 0.2%的過氧化氫（H2O2）清洗液。

10、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（消毒步驟）。

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 2%鹽（NaCl）的清洗液。

15、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（堿洗步驟）。

16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

17、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

18、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

19、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

20、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

21、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

22、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

八、極嚴(yán)重的微生物污堵和結(jié)垢

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（酸洗步驟）。

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

10、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH) 0.2%的過氧化氫（H2O2）清洗液。

15、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（消毒步驟）。

16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

17、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

18、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

19、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 2%鹽（NaCl）的清洗液。

20、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（堿洗步驟）。

21、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

22、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

23、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

24、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。

25、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。

26、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

27、轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

 

 

 

1、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

3、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 5%鹽（NaCl）的清洗液。

4、啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水300L、淡水3000L流量循環(huán)清洗30分鐘。

5、接入RO反滲透純水，清洗50分鐘。

6、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

7、調(diào)節(jié)各個閥門，淡水水量3000L，濃水水量300L

8、電流調(diào)至2A運行12小時以上。

9、作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。