的過(guò)氧化氫（H2O2）清洗液。

10、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（消毒步驟）。

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測(cè)產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 2%鹽（NaCl）的清洗液。

15、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（堿洗步驟）。

16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

17、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

18、分別檢測(cè)淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

19、調(diào)節(jié)各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。

20、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。

21、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)行再生（再生步驟），直至電阻率達(dá)到出水要求為止。

22、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。

八、極嚴(yán)重的微生物污堵和結(jié)垢

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。

2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過(guò)進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（酸洗步驟）。

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測(cè)淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

10、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)節(jié)淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗（鹽洗步驟）。

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續(xù)注入清水（RO產(chǎn)水），啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測(cè)產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。

14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過(guò)氧乙酸(CH3COOOH) 0.2%的過(guò)氧化氫（