電子行業(yè)反滲透水處理設(shè)備工藝      

    電子行業(yè)在元件生產(chǎn)時(shí)會(huì)需要大量的清洗用水，清洗用水的水質(zhì)必須要達(dá)到一定的電阻率才能保證清洗干凈，不會(huì)留下殘留物質(zhì)。反滲透水處理設(shè)備的出水水質(zhì)可以達(dá)到電子行業(yè)的用水標(biāo)準(zhǔn)。 電子元器件生產(chǎn)過(guò)程中需要大量高品質(zhì)的純水、超純水,例如液晶顯示器，線路板、半導(dǎo)體，集成電路芯片，顯像管等用的純水，對(duì)水的純度要求較高，需要采用反滲透水處理設(shè)備來(lái)制取。

反滲透水處理設(shè)備在電子行業(yè)中的作用 ：   

    隨著電子工業(yè)的發(fā)展對(duì)高純水提出了越來(lái)越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC(總有機(jī)碳)為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個(gè)/毫升;而制作16M位DRAM時(shí)，則要求TOC<5ppb、金屬離子<0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數(shù)為0.6個(gè)/升。   可以說(shuō)在電子級(jí)超純水制備系統(tǒng)中匯集了當(dāng)前水處理技術(shù)最先進(jìn)的工藝和設(shè)備,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等,其中反滲透裝置是整個(gè)純水、超純水制備系統(tǒng)工程中一關(guān)鍵的設(shè)備.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無(wú)機(jī)物質(zhì)、99%以上的相對(duì)分子質(zhì)量大于300的有機(jī)物、99%以上的包括細(xì)菌在內(nèi)的各種微粒和95%以上的二氯化硅. 反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應(yīng)用,不但能提高了產(chǎn)水品質(zhì),降低生產(chǎn)成本,而且防止環(huán)境污染,有力地推進(jìn)了電子工業(yè)的進(jìn)步,同時(shí)也促進(jìn)了純水、超純水制造技術(shù)的發(fā)展。 

      反滲透水處理設(shè)備已被廣泛應(yīng)用在電子工業(yè)中，由于其穩(wěn)定的出水水質(zhì)，簡(jiǎn)單的操作，方便快捷，備受電子行業(yè)的寵愛(ài)。